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HY管式爐

回轉(zhuǎn)爐回轉(zhuǎn)管式爐氨分解工業(yè)管式爐 900系列三溫區(qū)管式爐 GLJZ-3-1200多工位旋轉(zhuǎn)管式爐開啟式立式管式爐1200℃ 開啟式立式管式爐1500℃ 1200℃三聚氯膠管式爐 1600℃三溫區(qū)高溫管式爐 1600℃雙溫區(qū)高溫氣氛管式爐 1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐 1200℃小型開啟式真空管式爐 1400℃三溫區(qū)管式爐 1700℃精密真空氣氛管式爐開啟式管式爐

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1500℃開啟式立式管式爐

更新時間：2020-11-20

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開啟式立式管式爐1500℃ 設(shè)備簡介：立式管式爐采用爐管垂直放置、爐膛加熱絲環(huán)形分布的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可應(yīng)用于小型鋼件的淬火、退火、回火熱處理，以及立式CVD鍍膜等。設(shè)備可在氣氛狀態(tài)、真空狀態(tài)下運行，也可作為普通管式爐使用，適用于高校實驗室及科研院所等單位
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1200℃三聚氯膠管式爐

更新時間：2021-03-06

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1200℃三聚氯膠管式爐采用輕質(zhì)陶瓷纖維精制爐腔，由兩個半圓形爐體合成，開啟方便，專門設(shè)計用于對物料需要預(yù)抽真空條件下進行燒結(jié)；加熱速率快，耐高溫、抗氧化、耐腐蝕、升溫快；智能PID30段控溫，控溫精度高適用范圍：主要應(yīng)用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，三聚氛胺、尿素等化學實驗的燒結(jié)分析，晶體硅基板鏡膜，金屬材料擴散焊接以
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1600℃三溫區(qū)高溫管式爐

更新時間：2021-03-06

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三溫區(qū)高溫管式爐三個數(shù)字溫度控制器可獨立控制溫度，并可設(shè)置30段升降溫程序，溫區(qū)1（加熱區(qū)中心）采用硅碳棒加熱，另外兩個溫區(qū)用硅鑰棒進行加熱，
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1600℃雙溫區(qū)高溫氣氛管式爐

更新時間：2020-11-20

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1600℃雙溫區(qū)高溫氣氛管式爐以硅鉬棒為發(fā)熱元件；雙層風冷結(jié)構(gòu)；高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型；30段可編智能控制（可外接遠程控制）;加熱區(qū)長度660mm;可通氣氛及抽真空，爐體采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風冷系統(tǒng)，使得殼體表面的溫度小于60度，爐腔保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維，減少熱量的損失，內(nèi)爐腔表面涂有高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。
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1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐

更新時間：2020-11-20

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1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低外殼表面溫度；開啟式爐蓋設(shè)計，可在高溫情況下觀察物料反應(yīng)情況并實現(xiàn)迅速降溫；真空級法蘭密封，結(jié)合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；內(nèi)置五個加熱溫區(qū)，可以營造不同的溫度梯度。
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1200℃小型開啟式真空管式爐

更新時間：2020-11-20

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1200℃小型開啟式真空管式爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；雙層殼體結(jié)構(gòu)，設(shè)計合理，外形美觀，結(jié)構(gòu)緊湊；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；真空級法蘭密封，結(jié)合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。
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1400℃三溫區(qū)管式爐

更新時間：2021-03-06

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1400℃三溫區(qū)管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結(jié)合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；以優(yōu)質(zhì)硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；爐腔采用日本技術(shù)真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)1600型氧化鋁多晶體纖維無機材料拼搭結(jié)構(gòu)，長期使用不斷裂、垮塌；爐體為雙層爐殼，配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；內(nèi)置三個溫區(qū)，可營造不同的溫度梯度。
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1700℃精密真空氣氛管式爐

更新時間：2020-11-20

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1700℃精密真空氣氛管式爐采用觸摸屏控制系統(tǒng)，一鍵智能化操作，圖文界面操作更便捷；高真空級法蘭密封，結(jié)合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
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